產(chǎn)品介紹:
全新分離技術(shù)設(shè)計(jì)**技術(shù)的超微細(xì)研磨介質(zhì)分級(jí)技術(shù)，物料出料暢通無(wú)阻，*不堵塞篩網(wǎng)，避免清洗篩網(wǎng)等情況。從小型試驗(yàn)到大型生產(chǎn)都具備的高效納米砂磨機(jī)；經(jīng)過(guò)*優(yōu)化的創(chuàng)新構(gòu)造設(shè)計(jì)，能夠適用于硅碳負(fù)極材料、石墨烯、碳材料、陶瓷氮化物材料、納米拋光液等材料的超微細(xì)分散研磨。
可用于產(chǎn)品研發(fā)、檢驗(yàn)原材料、質(zhì)量控制、過(guò)程優(yōu)化及驗(yàn)證配方等；研磨效果等同大型生產(chǎn)設(shè)備，實(shí)驗(yàn)結(jié)果可直接放大于生產(chǎn)。
研磨水性物料/研磨溶劑性物料/研磨易被污染的物料
產(chǎn)品特點(diǎn):
1.雙動(dòng)力結(jié)構(gòu)，無(wú)篩網(wǎng)離心式分離不堵料；研磨效率高、粒徑分布狹窄；其核心結(jié)構(gòu)件針對(duì)不同物料選擇不同材質(zhì)、磨耗低、使用成本低；德國(guó)密封技術(shù)穩(wěn)定性好。
2.此為研發(fā)設(shè)備，直驅(qū)結(jié)構(gòu)，操作靈活，穩(wěn)定性強(qiáng)，代表了當(dāng)前濕法研磨的技術(shù)前沿。可用于產(chǎn)品研發(fā)、檢驗(yàn)原材料、質(zhì)量控制、過(guò)程優(yōu)化及驗(yàn)證配方等，該設(shè)備已得到全國(guó)30多座高等院校及科研機(jī)構(gòu)驗(yàn)證和使用。
應(yīng)用領(lǐng)域:
MLCC/LTCC、氧化鋁、氧化鋯、磷酸鐵鋰、硅碳負(fù)極、石墨烯、鈦酸鋇、印花墨水、打印墨水、CNT漿料、納米新材料、陶瓷墨水、碳材料、陶瓷氮化物材料、納米拋光液
產(chǎn)品參數(shù)：
| 型號(hào) | 研磨缸容積(L) | 電機(jī)功率(KW) | 分離電機(jī)功率（KW） | 分散器轉(zhuǎn)速(rpm) | 流量(L/h) | 產(chǎn)能(L/h) | 研磨介質(zhì)(mm) | 重量（kg) | 外形尺寸（mm） |
| CLSDN-0.5 | 0.5 | 7.5 | 5.5 | 3800 | 30-200 | 10-50 | ≥0.05 | 860 | 900*1400*1700 |
| CLSDN-1 | 1 | 7.5 | 5.5 | 3800 | 30-200 | 10-50 | ≥0.05 | 860 | 900*1400*1700 |
| CLSDN-2 | 2 | 7.5 | 5.5 | 3800 | 30-200 | 10-50 | ≥0.05 | 860 | 900*1400*1700 |
| CLSDN-3 | 3 | 7.5 | 5.5 | 3800 | 30-200 | 10-50 | ≥0.05 | 860 | 900*1400*1700 |
